伊東千尋教授が参加した研究が、アメリカ化学会の学術誌に掲載

公開日 2019年08月30日

筑波大学、岡山大学、九州大学他の研究者たちが行った、酸化グラフェンに光を照射すると酸素が除去されるメカニズムに関する研究に、材料工学メジャーの伊東千尋教授（当時）が参加。その成果がこのたびアメリカ化学会の学術誌「ACS Nano」に掲載されました。

 

  • タイトル：Selective Reduction Mechanism of Graphene Oxide Driven by the Photon Mode versus the Thermal Mode
  • 著　者：Masaki Hada, Kiyoshi Miyata, Satoshi Ohmura, Yusuke Arashida, Kohei Ichiyanagi, Ikufumi Katayama, Takayuki Suzuki, Wang Chen, Shota Mizote, Takayoshi Sawa, Takayoshi Yokoya, Toshio Seki, Jiro Matsuo, Tomoharu Tokunaga, Chihiro Itoh, Kenji Tsuruta, Ryo Fukaya, Shunsuke Nozawa, Shin-ichi Adachi, Jun Takeda, Ken Onda, Shin-ya Koshihara, Yasuhiko Hayashi, Yuta Nishina
  • ACS-Nano（当該論文）
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